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混合键合的混合键合凉K海无凸点减薄优势不再紧迫。无需使用凸点,力士
混合键合技术在下一代HBM上的急刹全面应用可能比预期进一步延迟。
SK海力士则推出iHBM技术,用不也悬
7月6日消息,混合键合凉K海据报道,力士三星电子与SK海力士在引入混合键合技术,急刹短期内混合键合不会大规模部署,用不也悬导热硅冷却元件嵌入D2D PHY层,混合键合凉K海当前HBM4的力士I/O数量已翻倍至2048个。
散热问题也有了更简单的急刹替代方案。
16层以上高堆叠产品的用不也悬需求并不紧迫,将电绝缘、混合键合凉K海两家公司计划从HBM5开始应用各自方案。力士可从堆叠内部带走热量。急刹HBM4已放宽至775微米。
而HBM3E标准厚度为720微米,这进一步延缓了混合键合的规模化部署。即使到HBM4E阶段,
混合键合技术直接连接DRAM芯片间的铜线,
业内判断,
目前客户和内存制造商并未积极讨论16层HBM的问题。称可较现有产品降低超过30%热阻。JEDEC正在讨论将HBM5的厚度标准从当前的775微米放宽至最高约1000微米。
若未来HBM5E阶段I/O进一步翻倍至4096个,不过混合键合的研发并未停滞。厚度标准松动后,届时必须采用混合键合以实现更高密度连接。但中长期当I/O密度再次爆炸时仍是发展方向。在封装内部加入独立热柱,行业分析师指出,有助于减小HBM厚度并改善散热。